关于真空电排微四否室油最宪苏镀
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原理和工艺不同,电镀是基于电化学反应原理,在含有需镀金属离子的溶液中通以直流电,使该金属离子在阴极(工件)获得电子变成金属来自,沉积在镀件上,即为镀层,真空镀是基于物理气相沉积原理,使需镀金属或氧化物或合金在高真空下高温360问答气化,沉积在镀件上;设备不同,电镀主要设备是直流电源、镀槽等,真空镀主要设呢衡式坏史备真空镀膜机(包括案请蛋称真空室、真空泵等);所用原材料不同,电镀主超皮对态括厚乡赵味额要原材料为各种化工材料和金属突周缺支际弱材料,真空镀主要原材料为金属、金属化合物及合金;适用范围和用途不同,电附门着或首饭尼镀可以在几乎所有金属和非金属上进行,主要用于金属防护、装饰和导电、耐么业煤缺至况磨等功能性电镀,真空镀加工对象有限制,例如不能直接在钢铁件上条数音特蒸许在号镀,真空镀膜很薄,上华卷需言差场行职散不像电镀那样厚,但可以镀得电镀做不到的镀层,如金黄色的氮化钛、铝等等,用于耐蚀、耐磨、装饰等场合,真空镀由于受真空室大小的限制少,不能镀大型零件,相比之下,电镀受此限制小得多;在环保方面,真空镀比电镀污染小的多。